应对光刻胶供应危机：中国应采取何种策略？

日本虽然不再主导芯片制造和光刻机的市场，但在光刻胶领域却依然处于强势地位，全球约90%市场份额由日本企业如JSR和东京应化等占据。在高难度的EUV光刻胶领域，日本企业的市场占有率超过了95%，而ArF浸没式的份额也超出了85%。光刻工艺的核心在于将液态光刻胶涂布于晶圆上，然后经过烘干、曝光、显影、刻蚀等步骤，最终剥离多余的胶。在这个过程中，光刻胶的作用远超千万美金的曝光设备，其重要性愈发明显。

随着制程的不断进步，对光刻胶的要求越来越高。EUV波长仅为13.5纳米，光子数量极少，因此光刻胶必须在有限的光子条件下实现精准的化学反应，同时兼顾灵敏度、分辨率和线边缘粗糙度。每种光刻胶的配方都是用户与生产商共同定制的，因此不是普通化学品可比。

有业内人士透露，在研发阶段，日本企业几乎满足客户的所有需求，因为一旦进入量产，客户往往不愿意更换供应商。这一长达数年的验证期为新进入者设下了高墙。光刻胶的纯度要求极其严格，曾有案例显示，IBM某款光刻胶显影后出现问题，追查后发现污染源竟然来自于洁净室的涂料和工人皮肤上的氨。 球友会登录

光刻胶行业整体规模较小，2019年全球市场约为13亿美元。日本前董事长曾幽默地提到，日本的拉面产业规模更大。然而，光刻胶的战略价值无疑超过了其市场规模。2022年，德国默克尝试收购JSR未果，随后出现私募基金接触。2023年，日本政府控股的JIC以64亿美元将JSR私有化，这是一个稍显不寻常的举动，表明半导体领域的这一堡垒必须保护。

在g线、i线和KrF光刻胶方面，中国企业已具备相当的产能，但在ArF光刻胶的市场占有率可能低于5%，而EUV光刻胶仍在研发阶段。短期内可通过多元化采购和战略库存应对，长期则需持续加大对国产替代的投入，特别是在ArF和EUV领域。最终目标是像日本当年一样，接受短期回报较低的现实，构建完整的从配方到量产的能力体系。一旦光刻胶供应中断，损失的不仅是某种产品，更会直接影响整个先进制程的进展。